公司成功中標華為集團真空甩帶爐項目

     恭賀我河南酷斯特儀器科技有限公司成功中標華為集團真空甩帶爐項目，為芯片事業提供實驗利器，貢獻微波力量！

我公司參與華為集團真空甩帶爐項目的招投標，成功中標，該項目用于研發非晶新材料，用于芯片的研究和應用擴展使用。

設備應用:

1. 用于新型稀土永磁材料

2. 用于非晶軟磁材料的熔煉研究

3. 納米材料科學的開發和研究

4. 用于高熵合金的熔煉

5. 用于電池材料的開發研究

6. 制備非晶片材 帶材，粉末

7. 用于科研教學使用

設備優點：

1·熔體溫度可達2000℃

2·樣品冷卻速率:105-106K/S ;

3·條帶厚度:20- 60微米，寬度:1-50毫米（取決于坩堝噴口規格）；

4·調速電機帶磁流體驅動結構,結構緊湊密封可靠；

5·甩帶驅動坩堝驅動采用伺服控制，精度高，位置準確

6·一體化設計，移動方便

7·觸摸屏+plc控制，自動化程度高

8·真空度多級配置，可實現 5pa~10-4pa之間的真空需求

9·配置真空熔煉，真空甩帶 真空噴鑄功能于一體

設備主要技術參數

1·供電電源：三相五線 AC380V 50HZ 35KW

2·樣品熔煉量：200-1000g;

3·甩帶容量：200-500g（用于制備帶狀非晶）

4·噴鑄容量：5~30g（用于制備小塊棒料板料非晶）

5·輥輪尺寸：φ300mmx150mm(水冷銅輥）線速度10~60m/s表面光潔度0.8以上

6·單棍旋轉裝置：銅輥速度：1-3000r/min;（伺服電機控制無極調速）

7·真空度：6.7x10-4Pa;（直聯泵+分子泵+擋板閥+復合真空機）