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          小型真空懸浮熔煉爐
          小型真空懸浮熔煉爐

          真空磁懸浮熔煉方法,是近些年來飛速發展的一種熔煉方法,主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬,在冶金和材料制備等許多重要領域得到了廣泛的應用,顯示出良好的應用前景。
          二、設備原理

          真空磁懸浮熔煉方法,是通過高頻或中頻交變磁場,在金屬熔煉中形成與重力相抵消的電磁力,使熔體懸浮,與坩堝內壁脫離方法是一項集電磁學、流體學、熱力學、力學、物理化學及冶金等多學科于一體的綜合冶金技術。因此受到了人們廣泛的觀注,在許多材料制備領域得到應用。由于磁懸浮的作用,使熔體與坩堝內壁脫離接觸,這樣熔體與坩堝壁之間的散熱行為由傳導散熱改為輻射散熱,從而導致散熱速度聚減,使熔體可達到很高的溫度(1700~2500℃),宜于熔煉高熔點金屬或其合金。更重要的方面是:熔煉時爐料的懸浮將有效防止爐料與坩堝壁接觸所帶來的污染。宜于獲得高純度或極活潑的金屬。

          三、主要技術參數

          1、額定功率:≤50Kw

          2、容量:水冷銅坩堝, 10-100g(以鋼液計算)

          3、輸入電源:3 相、 380 ± 10 %、 50Hz

          4、冷態極限真空度:5.0×10E-4Pa

          5、熔煉溫度≥2100℃(根據材料熔點不同熔煉溫度不同)

          6、水冷銅坩堝≤¢40 熔煉溫度低于2100度的金屬合金(根據熔煉材料定)

          7、可充保護氣≤0.03Mpa

          8、控制方式:操作模擬屏+PLC,配置手動操作按鈕

          9、操作模式:主要閥門氣動、電動


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